Forn tubu ta' Depożizzjoni Kimika tal-Fwar (CVD) huwa, essenzjalment, sistema integrata u sofistikata ħafna, filwaqt li forn tubu standard iservi bħala għodda ta' skop aktar ġenerali-għall-ipproċessar termali.
L-arkitettura ta' forn CVD tinkorpora sottosistemi speċjalizzati ddedikati għall-konsenja tal-gass, kontroll tal-vakwu, u komponenti tal-kimika tar-reazzjoni-li huma assenti fi fran aktar sempliċi ddisinjati biss għat-tisħin ta' materjali f'atmosfera kkontrollata.
Ir-rekwiżiti speċifiċi tal-proċess ta' Deposizzjoni Kimika tal-Fwar (CVD) jiddettaw direttament id-disinn strutturali kumpless tiegħu. Kull komponent jaqdi funzjoni distinta li testendi ferm lil hinn mis-sempliċi tisħin.
Kamra tar-Reazzjoni u Tubu tal-Fun
Is-sistemi CVD jutilizzaw tubi tal-forn ta'-purità għolja (tipikament mibnija mill-kwarz) biex jiżguraw li l-ebda kontaminanti ma jinterferixxu mal-proċess ta' depożizzjoni kimika.
Iż-żewġt itruf ta' dawn it-tubi huma ssiġillati bl-użu ta' flanġijiet ta' l-istainless steel b'vakwu għoli-. Dan joħloq ambjent-issikkat għall-gass-rekwiżit kritiku għall-kontroll tal-gassijiet prekursuri u l-evakwazzjoni tal-prodotti sekondarji taħt kundizzjonijiet ta' vakwu.
Fran tubu standard, b'kuntrast, tipikament jimpjegaw tubi taċ-ċeramika tal-alumina jew tal-mullite. Il-mekkaniżmi tas-siġillar tagħhom huma ddisinjati biss biex ikun fihom gassijiet inerti, aktar milli biex iżommu ambjent ta'-vakwu għoli.
Sistemi ta' Kontroll ta' Atmosfera u Pressjoni
Din tikkostitwixxi l-aktar distinzjoni strutturali sinifikanti. AForn tubu CVDkaratteristiċi sistema ta' kontroll tas-sors tal-gass-tipikament mgħammra b'Kontrolluri tal-Fluss tal-Massa (MFCs) multipli-biex tiffaċilita t-taħlit preċiż u l-injezzjoni ta' gassijiet prekursuri reattivi.
Tinkorpora wkoll sistema integrata ta' kontroll tal-vakwu, kompluta b'pompi u gauges tal-pressjoni, iddisinjati biex iżommu l-ambjent speċifiku ta' pressjoni baxxa-meħtieġ biex isseħħ ir-reazzjoni tad-depożizzjoni.
B'paragun, fran ta 'tubi standard għandhom portijiet ta' dħul u ħruġ tal-gass relattivament sempliċi. Filwaqt li jeħtieġu tnaddaf b'gassijiet inerti-bħal nitroġenu jew argon-biex jipprevjenu l-ossidazzjoni, m'għandhomx il-kapaċità għal kontroll preċiż fuq il-kompożizzjoni u l-pressjoni tal-gass.
Sistema ta 'Kontroll tat-Temperatura
Fran CVD jimpjegaw kontrolluri programmabbli intelliġenti b'ħafna-segmenti.
Dawn il-kontrolluri huma kapaċi jeżegwixxu profili ta' temperatura kumplessi-inklużi rati preċiżi tar-rampa, ħinijiet ta' residenza, u rati ta' tkessiħ-li huma kritiċi biex jirregolaw it-tkabbir u l-proprjetajiet tal-films irqaq depożitati.
Ħafna fran bħal dawn għandhom ukoll disinn ta' tliet-żoni, fejn is-sezzjoni ċentrali tat-tubu u ż-żewġt itruf tiegħu huma kkontrollati b'mod indipendenti minn kontrolluri separati.
Din il-konfigurazzjoni tistabbilixxi żona usa' ta' uniformità ta' temperatura eċċezzjonali-prerekwiżit kruċjali għall-kisba ta' depożizzjoni konsistenti fuq żoni tal-wiċċ kbar, bħal wejfers tas-silikon.
Filwaqt li fran b'ħafna-żoni jeżistu għal applikazzjonijiet mhux-CVD, fran b'tubi bażiċi tipikament jużaw żona waħda ta' tisħin u kontrolluri aktar sempliċi, iddisinjati biex iżommu temperatura waħda fil-mira.
Korp tal-forn u tkessiħ
Il-fran ta' Depożizzjoni Kimika tal-Fwar (CVD) tipikament għandhom struttura tal-qoxra tal-forn b'ħitan doppji-mgħammar b'fannijiet interni li jkessħu. Dan id-disinn jippermetti tkessiħ rapidu ladarba jitlesta l-proċess ta 'depożizzjoni.
Tali bidla rapida fit-temperatura hija rekwiżit ta 'proċess; jgħin biex "tiffriża" l-istruttura tal-film irqiq depożitat, u b'hekk tipprevjeni tranżizzjonijiet ta 'fażi mhux mixtieqa jew tkabbir tal-qamħ li altrimenti jistgħu jseħħu waqt proċess ta' tkessiħ bil-mod.
Disinji standard tal-forn, b'kuntrast, jagħtu prijorità lill-istabbiltà termali u tipikament jimpjegaw metodu ta 'tkessiħ bil-mod u passiv.